环境因素及控制方法研究--以集成电路工厂光刻区为例
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集成电路产业是我国重点发展的新兴战略产业,国家集成电路十二五规划中明确了集成电路是国家战略性新兴产业,,集成电路制造业是集成电路产业中极其重要的一环。集成电路制造是一个非常复杂的流程,其中光刻是其中最重要的环节。由于光刻设备的精密性要求以及光刻材料的敏感性,环境因素会对其产生非常大的影响从而影响产品质量,尤其是微振动、颗粒污染和气态分子污染属于环境工程学需要研究的对象。本文尝试从光刻设备的原理出发,结合国内外资料及自身工作实践经验,论述上述环境因素对生产造成的影响,分析各类对光刻区生产造成影响的环境污染因子的来源以及相关控制标准的对比,进而介绍其控制原理及控制方法,包括各类设备及其应用方案,然后以层次分析(AHP)和趋势图分析的方法来对实际案例进行分析。光刻区域的环境因素很多,需综合考虑并有针对性地采取措施。本研究较完整地分析了集成电路生产线光刻区域的环境因素控制方法,推导了在微振动、颗粒污染和气态分子污染方面有效的处理流程并总结了相关经验。
摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4页 |
符号及缩略说明 | 第10-11页 |
第一章 绪论 | 第11-22页 |
1.1 背景分析 | 第11-15页 |
1.1.1 我国集成电路工业的发展 | 第11-12页 |
1.1.2 环境因素及控制方法研究的意义 | 第12-15页 |
1.2 研究内容及方法 | 第15-20页 |
1.2.1 影响光刻工序的环境因素 | 第15-18页 |
1.2.2 研究内容及方法 | 第18-20页 |
1.3 技术路线 | 第20-22页 |
第二章 微振动控制方法研究 | 第22-45页 |
2.1 微振动分析 | 第22-27页 |
2.1.1 微振动来源与危害 | 第22-23页 |
2.1.2 光刻区域微振动控制标准分析 | 第23-27页 |
2.2 微振动控制分析 | 第27-33页 |
2.2.1 防微振原理及措施 | 第27-28页 |
2.2.2 光刻机独立基础 | 第28-33页 |
2.3 微振动控制实例分析 | 第33-44页 |
2.4 本章小结 | 第44-45页 |
第三章 颗粒污染控制方法研究 | 第45-68页 |
3.1 颗粒污染分析 | 第45-47页 |
3.1.1 颗粒的来源、危害 | 第45-46页 |
3.1.2 光刻区域颗粒污染控制标准分析 | 第46-47页 |
3.2 颗粒污染控制分析 | 第47-60页 |
3.2.1 颗粒污染物的控制原理 | 第47-51页 |
3.2.2 颗粒污染物的控制方法 | 第51-53页 |
3.2.3 颗粒控制设备及应用 | 第53-59页 |
3.2.4 光刻区域洁净度检测 | 第59-60页 |
3.3 颗粒污染控制实例分析 | 第60-66页 |
3.3.1 延长高效和超高效过滤器的寿命 | 第60-64页 |
3.3.2 洁净空调系统可靠性的提升 | 第64-66页 |
3.4 本章小结 | 第66-68页 |
第四章 气态分子污染物(AMC)的控制 | 第68-92页 |
4.1 AMC 分析 | 第68-72页 |
4.1.1 AMC 的来源、危害 | 第68-71页 |
4.1.2 光刻区域 AMC 控制标准分析 | 第71-72页 |
4.2 AMC 控制分析 | 第72-80页 |
4.2.1 AMC 的控制原理 | 第72-74页 |
4.2.2 AMC 的控制方法 | 第74-76页 |
4.2.3 AMC 污染控制相关设备及其应用 | 第76-80页 |
4.2.4 AMC 的检测 | 第80页 |
4.3 AMC 控制实例分析 | 第80-90页 |
4.4 本章小结 | 第90-92页 |
第五章 结论与展望 | 第92-97页 |
5.1 结论 | 第92-94页 |
5.2 展望 | 第94-97页 |
参考文献 | 第97-101页 |
附录:集成电路制造及光刻工序介绍 | 第101-117页 |
1. 集成电路简介 | 第101页 |
2 IC 制造流程简介 | 第101-105页 |
3. 光刻工序简介 | 第105-110页 |
4. 光刻机的结构及原理 | 第110-114页 |
5. 光刻胶的成像机理 | 第114-116页 |
附录部分参考文献 | 第116-117页 |
攻读学位期间发表的学术论文及成果 | 第117-118页 |
致谢 | 第118-120页 |
上海交通大学硕士学位论文答辩决议书 | 第120-121页 |
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