提要 | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-42页 |
第一节 引言 | 第8-9页 |
第二节 去润湿现象 | 第9-20页 |
一、 聚合物薄膜的去润湿现象 | 第9-10页 |
二、 聚合物薄膜去润湿的机理 | 第10-12页 |
三、 聚合物薄膜去润湿行为的影响因素 | 第12-20页 |
第三节 微透镜阵列 | 第20-26页 |
一、 微透镜阵列的加工 | 第21-23页 |
二、 微透镜阵列的商业应用 | 第23-26页 |
第四节 微结构加工方法 | 第26-35页 |
一、 传统微加工技术----光刻技术[59] | 第27-28页 |
二、 先进刻蚀技术 | 第28-29页 |
三、 软刻蚀技术 | 第29-35页 |
第五节 双层薄膜的去润湿 | 第35-39页 |
第六节 本课题选题的意义和思路 | 第39-42页 |
第二章 微透镜阵列的加工 | 第42-74页 |
第一节 材料和仪器 | 第42-43页 |
一、实验材料 | 第42-43页 |
二、表征仪器 | 第43页 |
第二节 实验方法 | 第43-48页 |
一、模板的加工 | 第43-46页 |
二、聚合物薄膜样品的制备 | 第46-47页 |
三、薄膜的去润湿及其形态表征 | 第47-48页 |
第三节 P4VP薄膜的图案化 | 第48-51页 |
第四节 PS薄膜对基底的改性 | 第51-53页 |
第五节 P4VP薄膜的有序去润湿 | 第53-56页 |
一、有序去润湿和无序去润湿 | 第53-55页 |
二、有序序去润湿过程 | 第55-56页 |
第六节 有序去润湿所得结构的形貌分析 | 第56-69页 |
一、去润湿所得液滴的形貌分析 | 第56-60页 |
二、主液滴和卫星液滴的分布 | 第60-64页 |
三、有序去润湿得到的其它结构 | 第64-69页 |
第七节 有序聚合物液滴作为微透镜阵列 | 第69-72页 |
第八节 本章小结 | 第72-74页 |
第三章 双层薄膜的反转去润湿 | 第74-88页 |
第一节 材料和仪器 | 第74-75页 |
一、实验材料 | 第74页 |
二、表征仪器 | 第74-75页 |
第二节 实验方法 | 第75-76页 |
一、硅基底的制备 | 第75页 |
二、聚合物薄膜样品的制备 | 第75-76页 |
第三节 结果与讨论 | 第76-86页 |
一、双层薄膜的去润湿过程 | 第76-81页 |
二、双层薄膜的去润湿的机理 | 第81-82页 |
三、分子量对双层薄膜体系去润湿过程的影响 | 第82-84页 |
四、薄膜厚度对P4VP/PS双层薄膜去润湿的影响 | 第84-86页 |
第四节 本章小节 | 第86-88页 |
参考文献 | 第88-97页 |
摘要 | 第97-100页 |
Abstract | 第100-102页 |
致 谢 | 第103页 |