铜活化二硼化镁低温烧结机制及超导电性

MgB_2超导体论文 临界电流密度论文 低温活化烧结论文 碳掺杂论文 自氧化论文
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制备具有高临界电流密度的二硼化镁超导体是当前超导研究的热点,近几年发展起来的低温烧结技术为显著改善临界电流密度提供了可能。由于低温烧结过程中原子在固相中扩散缓慢,MgB2的合成一般都需要很长时间才能完成,因此寻找一种低廉有效的方法来提高烧结效率,在低温条件下快速合成具有更高临界电流密度的MgB2超导材料成为目前亟待解决的问题。在此背景下,本文首先阐明了低温条件下MgB2的活化烧结机理和掺杂机制;以此为指导,把有效碳掺杂和球磨自氧化技术成功地应用到Cu活化烧结MgB2的低温制备中;利用这两种新技术在低温下快速合成具有优异临界电流密度的MgB2超导体,基本可满足应用要求。上述研究包含的主要内容及获得的结论有:综合采用原位X-射线衍射和扫描示差量热分析方法对Mg-B体系从低温到高温烧结全过程进行了探究,其后结合等温动力学分析重点阐明了低温成相动力学机理。结果表明,Mg-B体系低温固相反应是由可变的动力学机制控制,反应刚开始阶段活化的Mg和B原子较少,反应速率比较慢,该阶段主要为相界面控制的反应过程;随着反应的进行,生成的MgB2层越来越厚,Mg的扩散变得越来越困难,此时一维扩散成为控制性环节。上述动力学机理导致反应激活能随着反应进行先减小而后增大。系统研究了不同金属(Cu、Sn和Ag)添加对MgB2低温烧结效率的影响,据此澄清了金属活化低温烧结MgB2的机理,并提出了金属活化剂选取的判据。结果表明:在Mg-Cu-B体系中,Cu首先与Mg在485℃左右形成Mg-Cu共晶液相,它可为Mg向B的扩散提供快速通道,降低MgB2相的生成温度,促进MgB2的生成。添加Cu的MgB2烧结过程符合活化烧结机理。Ag和Sn的添加均能形成低温液相,明显提高MgB2低温烧结效率,但对MgB2低温烧结效率的提高比添加Cu弱。结合活化烧结机理分析确定了微量Cu作为最佳活化剂。结合微观组织形貌观察和超导性能测试全面分析了在低温和高温烧结条件下活化剂Cu对MgB2微观组织和超导性能的影响。活化剂Cu在MgB2烧结过程中能够有效减少MgO杂质的生成,提高低磁场下的临界电流密度。在较低的烧结温度下,局部Mg-Cu液相的生成能够溶解和包覆部分Mg颗粒,隔绝了它们与气态氧原子或者固态含氧物质的接触,因此可以减少它们的氧化。烧结温度在Mg的熔点以上时,Cu的加入可明显降低Mg熔体的蒸气压,减少Mg的挥发和气化Mg原子的数量,最终减少了因气化Mg原子与保护气氛中残余氧气反应生成的MgO杂质的数量。不同添加量的Cu活化低温烧结制备的MgB2块体的显微组织形态差别明显。适量Cu添加可以生成层状MgB2晶体组织,它取决于活化剂Cu添加后形成的Mg-Cu液相烧结环境。在该液相烧结环境中,MgB2晶体能够以二维形核长大的机制最终形成层状组织。与传统高温烧结形成的典型MgB2晶体组织相比,层状MgB2晶体组织具有更优异的晶间连接性。为了进一步提高Cu活化低温烧结制备的MgB2的载流能力,本文还系统分析了低温引入碳掺杂的机制,提出了碳掺杂在Cu活化低温烧结过程中有效引入的判据。研究表明,碳基化合物低温引入碳掺杂的关键是能够在MgB2相生成之前或者同时释放出活性足够高的C。释放C的活性决定了低温引入碳掺杂的有效性。据此分析了纳米SiC和葡萄糖的低温引入碳掺杂机制的可行性:在烧结过程中,纳米SiC在低温下通过叠加反应释放出活性足够高的C,形成有效碳掺杂;葡萄糖低温分解释放出的活性C相对较少,低温时很难形成有效碳掺杂。在Cu活化低温烧结中能够引入有效碳掺杂的碳基化合物应该不与Cu反应,不破坏Cu的活化烧结作用。反过来,Cu的活化烧结也能够促进或者是至少不阻碍该碳基化合物低温有效引入碳掺杂。根据此条件,选取了纳米SiC为合适掺杂剂,在低温活化烧结中快速合成了碳掺杂MgB2块体。无论是在低磁场中还是在高磁场中,其临界电流密度值都有明显的提高。除了引入碳掺杂以外,还尝试使用球磨处理和Cu活化烧结相结合的方法来进一步提高低温烧结效率和相应的临界电流密度。在这个过程中,发现短时间球磨后粉末的微量氧化不仅不恶化临界电流密度,反而会提高高场下的临界电流密度大小。在系统分析该现象的基础上总结出球磨自氧化引入MgO掺杂的机制,并把这一机制应用到Cu活化低温烧结MgB2中,最终发现其在中低磁场下的载流能力有了更优异的表现。究其原因,一方面球磨自氧化机制可以促进Cu活化低温烧结,提高烧结试样的致密度,使得MgB2晶粒排列紧密,有些甚至呈层状排列,这些因素都显著优化了MgB2的晶间连接性;另一方面球磨自氧化机制在细化MgB2晶粒的同时还可引入大量均匀分布的纳米MgO颗粒,显著增加了有效磁通钉扎中心。球磨自氧化处理与Cu活化低温烧结技术相结合,可以从提高晶间连接性和增加磁通钉扎中心两方面共同改善载流能力,最终大幅度提高了临界电流密度值,基本达到实际应用水平。
摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第11-42页
    1.1 引言第11页
    1.2 二硼化镁优越的超导电性以及应用前景第11-17页
        1.2.1 晶体结构第12页
        1.2.2 超导电性第12-15页
        1.2.3 应用前景第15-17页
    1.3 二硼化镁引入磁通钉扎的机制及技术第17-20页
        1.3.1 自身钉扎机制第17页
        1.3.2 引入钉扎的工艺方法第17-20页
    1.4 二硼化镁的化学掺杂方法第20-28页
        1.4.1 非碳基化合物掺杂第20-22页
        1.4.2 金属掺杂第22-24页
        1.4.3 碳基化合物掺杂第24-28页
    1.5 二硼化镁超导材料的制备方法第28-34页
        1.5.1 块材第28-29页
        1.5.2 线材和带材第29-32页
        1.5.3 薄膜第32-34页
    1.6 二硼化镁的低温烧结制备第34-39页
        1.6.1 高临界电流密度二硼化镁的低温合成第35-36页
        1.6.2 提高低温烧结效率的途径第36-39页
    1.7 本论文研究思路第39-42页
第二章 二元Mg-B 体系低温烧结成相过程及机制第42-58页
    2.1 引言第42页
    2.2 二元Mg-B 体系烧结过程第42-46页
        2.2.1 样品的制备与检测第43页
        2.2.2 二硼化镁烧结全过程分析第43-46页
    2.3 Mg-B 体系低温烧结动力学分析第46-53页
        2.3.1 等温动力学计算模型第46-48页
        2.3.2 原位X-射线衍射结果第48-49页
        2.3.3 Mg-B 体系中低温烧结动力学机制第49-53页
    2.4 低温烧结二硼化镁样品的表征第53-57页
        2.4.1 物相组成和微观形貌第53-55页
        2.4.2 超导性能分析第55-57页
    2.5 本章小结第57-58页
第三章 二硼化镁的金属活化低温烧结机理第58-77页
    3.1 引言第58页
    3.2 Cu 的加入对Mg-B 体系烧结成相过程的影响第58-64页
        3.2.1 烧结过程的差热分析第59-60页
        3.2.2 烧结反应全过程与成相模型第60-64页
    3.3 Cu 活化低温烧结二硼化镁机理第64-71页
        3.3.1 Cu 加入促进二硼化镁低温烧结第64-69页
        3.3.2 Cu 活化低温烧结机理分析第69-71页
    3.4 其他金属活化低温烧结分析与比较第71-75页
        3.4.1 Ag 和Sn 添加对Mg-B 烧结过程的影响第71-74页
        3.4.2 不同金属活化低温烧结效率比较与分析第74-75页
    3.5 本章小结第75-77页
第四章 Cu 活化烧结二硼化镁微观组织与超导性能分析第77-96页
    4.1 引言第77页
    4.2 活化剂Cu 对二硼化镁中MgO 杂质的控制第77-83页
        4.2.1 MgO 的表征第78-80页
        4.2.2 Cu 抑制MgO 杂质生成的机制第80-81页
        4.2.3 对超导性能的改善第81-83页
    4.3 铜活化烧结对低温制备二硼化镁超导体晶间连接性的改善第83-91页
        4.3.1 不同添加量Cu 活化低温烧结二硼化镁的显微组织第83-86页
        4.3.2 Cu 活化烧结过程中层状二硼化镁晶体组织形成机制第86-89页
        4.3.3 层状二硼化镁晶体组织的晶间连接性第89-91页
    4.4 从低温到高温烧结Cu 活化剂对二硼化镁超导性能的影响机制第91-95页
        4.4.1 不同烧结温度下Cu 活化烧结二硼化镁试样的表征第91-93页
        4.4.2 Cu 在不同烧结温度下对二硼化镁超导性能的影响机制第93-95页
    4.5 本章小结第95-96页
第五章 低温碳掺杂引入机制以及对Cu 活化低温烧结的影响第96-114页
    5.1 引言第96页
    5.2 纳米SiC 低温引入碳掺杂的叠加反应机制第96-101页
        5.2.1 纳米SiC 掺杂对Mg-B 体系烧结过程的影响第96-98页
        5.2.2 纳米SiC 低温引入碳掺杂的机制第98-101页
    5.3 葡萄糖在低温烧结中引入碳掺杂失效分析第101-104页
        5.3.1 葡萄糖掺杂对Mg-B 体系烧结过程的影响第101-102页
        5.3.2 添加葡萄糖低温引入碳掺杂的失效及相关机制分析第102-104页
    5.4 碳基化合物在Cu 活化低温烧结中有效引入碳掺杂的判据第104-105页
    5.5 纳米SiC 掺杂对Cu 低温活化烧结二硼化镁中J_c 的改善第105-113页
        5.5.1 有效碳掺杂引入的可行性分析第105-107页
        5.5.2 物相组成与显微组织第107-110页
        5.5.3 超导性能第110-113页
    5.6 本章小结第113-114页
第六章 球磨自氧化掺杂及其对Cu 活化低温烧结的作用第114-136页
    6.1 引言第114-115页
    6.2 单独球磨B 粉对二硼化镁烧结过程以及超导性能的影响第115-120页
        6.2.1 烧结过程第115-116页
        6.2.2 微观组织及超导性能第116-120页
    6.3 Mg-B 球磨自氧化引入MgO 掺杂机制以及对J_c 的改善第120-128页
        6.3.1 原始粉末球磨自氧化处理工艺第120-122页
        6.3.2 对二硼化镁烧结试样中J_c 的改善机制第122-126页
        6.3.3 球磨自氧化处理后烧结试样组织形成机制第126-128页
    6.4 球磨自氧化处理对Cu 活化低温烧结二硼化镁的影响第128-133页
        6.4.1 烧结过程第129-131页
        6.4.2 显微组织与J_c第131-133页
    6.5 本章小结第133-136页
第七章 主要结论与创新点第136-140页
    7.1 主要结论第136-138页
    7.2 主要创新点与下一步工作思路第138-140页
参考文献第140-157页
附录:球磨过程中纳米镁粉和镍粉界面处非晶先驱相的形成机制第157-167页
发表论文和科研情况说明第167-171页
致谢第171-172页
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