高能短脉冲激光相干合成技术研究

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在高能超高密度物理等科研需求的牵引下,提高单路短脉冲的输出能量到几千焦耳并进行多路高能短脉冲激光相干合成,创造前所未有的极端物态条件成为科研人员追求的目标。受限于非线性效应、光学元件损伤、热透镜效应、压缩器光栅尺寸等因素,单路激光器输出功率存在极限,而将输出光束进行相干合成是获得高能超高功率密度焦斑的有效途径之一,世界上主要的高能短脉冲研究机构均提出了在大型固体激光装置上实现相干合成的目标。目前的高能短脉冲激光装置普遍基于啁啾脉冲放大(CPA)技术,要求终端压缩器的光栅口径达到米量级,但制作大口径光栅的技术难度大而且代价昂贵,最经济有效的方法是采用阵列光栅替代单块大口径光栅,由于阵列器件的使用,在进行多路脉冲激光相干合成前,首先需要满足单路脉冲激光的相干合成输出,这也是高能短脉冲激光装置相干合成的显著特点。目前国际上对高能短脉冲激光相干合成的研究主要集中在概念探索和设计阶段。本论文对高能短脉冲激光相干合成技术展开了全面的研究,系统地分析了基于CPA技术脉冲激光装置单路和多路相干合成中的问题,建立了对应的控制模型,并针对实际情况进行了数值计算,得到主要影响因素的误差范围和补偿方法。在此基础上制定了多路高能短脉冲激光装置相干合成技术路线,并在离线实验平台上验证了技术路线中的部分关键技术。论文在以下几个方面取得了对大型高能短脉冲激光相干合成具有建设意义的结果:1、根据脉冲激光相干合成理论,考虑普遍的相位情况,对多路脉冲激光相干合成聚焦进行了系统的研究。理论上以衍射光学为基础,以锁相控制为目的,对影响相干合成效果的因素进行了分解,定量分析了光束近场分布、光束排布、束腰半径、系统f数、光束间相位差、光束指向性误差、波前畸变、脉冲宽度和光谱色散误差等对相干合成焦斑时空特性的影响,给出了其中某些重要因素的误差指标,建立了对应的时间和空间相干合成控制模型,为多路短脉冲的相干合成设计提供了理论基础和参数依据。2、根据误差范围和相干合成时空控制模型,给出了多路高能短脉冲激光装置相干合成技术路线,并对其中的相位监测和高精度光束相位锁定等关键技术进行了实验验证。在大型固体脉冲激光装置中由于脉冲激光的重复频率很低,在准直和调节脉冲激光时,往往采用连续激光模拟脉冲激光在激光链路中的传输,因此在验证实验中采用了连续激光光源,结合随机并行梯度下降(SPGD)算法,在振动实验环境下的离线光学平台上实现了2路连续激光较好的相干合成效果,这种相位调整和监测机构对脉冲激光装置上实现相干合成具有一定的借鉴意义。3、高能短脉冲激光装置的压缩器使用了阵列光栅,导致单光束经过压缩器后变成两支或多支并行的子光束,受到外界振动的影响,子光束之间的相位关系呈随机变化,因此需要解决单路光中子光束之间的相干合成。结合脉冲激光相干合成理论和复杂光栅压缩器的相位特点,建立了阵列光学元件的光学模型。通过光线几何追迹和惠更斯-菲涅尔衍射理论,计算了阵列光栅压缩器和阵列抛面镜的远场焦斑空间分布;在分析合成脉冲的时间特性时,从Treacy构型压缩器出发得到了阵列双光栅对压缩器输出脉冲群延迟和展宽的表达式,以上方法可以较为简便地处理阵列化光学元件相干合成问题。4、为了更好地开展阵列光学元件相位锁定工程化研究,建立了一个光机电集成模型,用以分析不同支撑结构在外界振动激励下对远场焦斑的影响和经过闭环控制后对远场焦斑的改善。在最终设计加工的2×2阵列光学支撑镜架上,实现了位移传感器和压电驱动器的闭环锁相控制和远、近场高速CCD视频采集相机和压电驱动器的自动锁相,锁相后的轴向错位均方根误差为几个纳米,锁相时间大于1小时,符合阵列化结构相干合成的工程化要求。5、Von Karman干扰谱能较好地描述实际高能短脉冲装置中激光束的波前畸变水平,光束相位关系则反映了光束的相干性,作为高能短脉冲相干合成研究的补充,建立了基于Von Karman干扰谱和随机相位屏的集成模型,用于分析高能短脉冲激光在畸变波前和不同合成方式条件下的远场焦斑,该模型的计算结果与文献上的实验报道结果吻合较好,建立集成模型对多路高能激光空间合成焦斑的仿真和优化提供了极大的便利。考虑到高能短脉冲激光装置目前的研究现状,论文在进行相干合成聚焦研究时更多地考虑了2×2阵列单元,因为此类大型激光装置的基本编组单元为一个Quad(2×2)阵列结构,从基本单元出发能与实际情况结合得更为紧密并具有较好的可扩展性和应用价值。
摘要第12-14页
Abstract第14-15页
第一章 绪论第17-34页
    1.1 激光功率密度与短脉冲激光技术的发展第17-19页
    1.2 研究背景第19-20页
    1.3 高能短脉冲激光装置的介绍第20-23页
    1.4 高能短脉冲固体激光装置的特点第23-24页
    1.5 高能短脉冲激光相干合成技术的需求背景第24-26页
        1.5.1 脉冲相干合成聚焦技术的需求背景第24-25页
        1.5.2 阵列元件相干合成技术的需求背景第25-26页
    1.6 高能短脉冲激光相干合成的研究现状第26-32页
        1.6.1 连续激光相干合成第26-28页
        1.6.2 短脉冲合成聚焦技术的研究现状第28-30页
        1.6.3 阵列相干合成技术的研究现状第30-32页
    1.7 本文研究的主要内容第32-34页
第二章 多路短脉冲激光的相干合成理论和模型第34-46页
    2.1 脉冲相干合成的理论分析第34-39页
        2.1.1 多路短脉冲相干合成聚焦的空间特性第35-37页
        2.1.2 多路短脉冲相干合成聚焦的时间特性第37-39页
    2.2 脉冲激光相干合成的控制模型分析第39-43页
        2.2.1 多路短脉冲相干合成聚焦的空间控制模型第39-41页
        2.2.2 多路短脉冲相干合成聚焦的时间控制模型第41-43页
    2.3 脉冲激光相干合成的评价标准第43-45页
    2.4 本章小结第45-46页
第三章 多路短脉冲相干合成的影响因素分析第46-65页
    3.1 焦斑的空间分布特性第46-58页
        3.1.1 近场光束振幅的影响第46-47页
        3.1.2 束腰半径的影响第47-48页
        3.1.3 f 数的影响第48-49页
        3.1.4 光束间相位差的影响第49-50页
        3.1.5 光束指向性的影响第50-52页
        3.1.6 波前误差的影响第52-54页
        3.1.7 光谱宽度的影响第54-57页
        3.1.8 小结第57-58页
    3.2 焦斑的时间特性模拟第58-64页
        3.2.1 色散补偿理论的数值计算第58-59页
        3.2.2 常用的色散补偿单元及其色散原理第59-62页
        3.2.3 双光栅对色散补偿单元及其色散补偿数值计算第62-63页
        3.2.4 双光栅对色散补偿单元及其色散补偿数值计算第63-64页
    3.3 本章小节第64-65页
第四章 相干合成聚焦的技术路线分析及验证第65-83页
    4.1 高能PW 短脉冲装置中的相干合成技术路线分析第65-73页
        4.1.1 光束指向性和轴向光程差的监测和控制第65-68页
        4.1.2 光束波前的监测和控制第68-71页
        4.1.3 相干合成基本技术路线第71-73页
    4.2 两路光相干合成验证实验第73-82页
        4.2.1 平台光束指向性振动分析第74-76页
        4.2.2 SPGD 算法第76-80页
        4.2.3 SPGD 算法实验结果第80-81页
        4.2.4 实验分析第81-82页
    4.3 本章小结第82-83页
第五章 阵列光学系统相干合成研究第83-108页
    5.1 阵列系统的误差模型第83-95页
        5.1.1 误差类型第83-84页
        5.1.2 阵列光栅压缩器模型第84-85页
        5.1.3 Treacy 阵列压缩器中的输出脉冲第85-86页
        5.1.4 阵列双光栅对压缩聚焦系统输出脉冲空间分布第86-92页
        5.1.5 阵列双光栅对压缩聚焦系统输出脉冲时间特性第92-95页
    5.2 阵列光栅压缩器系统的数值计算第95-104页
        5.2.1 脉冲远场空间分布的计算结果第95-102页
        5.2.2 脉冲群延迟和脉冲展宽的计算结果第102-104页
    5.3 阵列离轴抛面镜的数值计算第104-107页
        5.3.1 角度失调第104-105页
        5.3.2 位置失调第105-106页
        5.3.3 系统相干合成性能统计分析第106-107页
    5.4 本章小结第107-108页
第六章 2×2 阵列系统相干合成的设计和单元锁相实现第108-128页
    6.1 2×2 阵列系统集成模型第108-116页
        6.1.1 集成模型概述第108-109页
        6.1.2 光学模型第109-111页
        6.1.3 结构模型第111-113页
        6.1.4 控制模型第113-116页
    6.2 2×2 阵列系统中单元PID 锁定控制实验研究第116-122页
        6.2.1 2×2 阵列系统实验装置第116-118页
        6.2.2 压电陶瓷驱动器测试第118-119页
        6.2.3 3 轴PID 控制第119-121页
        6.2.4 阵列系统光学稳定性测试第121-122页
    6.3 基于CCD 相机的自动锁相实验研究第122-126页
        6.3.1 基于远场CCD 相机的光学测试平台第122-124页
        6.3.2 基于近、远场CCD 相机的光学测试平台第124-126页
    6.4 本章小结第126-128页
第七章 多路高能短脉冲激光其它合成方式的探讨及应用第128-141页
    7.1 模型建立第128-132页
    7.2 数值计算第132-135页
        7.2.1 多种合成方式的仿真结果第132-134页
        7.2.2 仿真结果验证第134-135页
    7.3 在快点火方式激光惯性约束聚变领域的应用第135-139页
        7.3.1 快点火方式激光惯性约束聚变的相关背景第135-136页
        7.3.2 用于电子快点火的激光驱动器参数第136-137页
        7.3.3 合成方式的分析第137-139页
    7.4 本章小结第139-141页
第八章 结论与展望第141-145页
致谢第145-146页
参考文献第146-157页
作者在学期间取得的学术成果第157-158页
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论文编号ABS574441,这篇论文共158页
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