摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
主要符号表 | 第12-13页 |
1 绪论 | 第13-25页 |
1.1 透明导电薄膜的研究现状 | 第13-19页 |
1.1.1 单层透明导电氧化物薄膜 | 第13-15页 |
1.1.2 其他种类的单层透明导电薄膜 | 第15-18页 |
1.1.3 氧化物-金属-氧化物结构的透明导电薄膜 | 第18-19页 |
1.2 ITO、LaB_6复合材料的研究现状 | 第19-20页 |
1.3 薄膜的生长机理 | 第20页 |
1.4 透明导电薄膜的制备方法 | 第20-22页 |
1.4.1 磁控溅射沉积 | 第21页 |
1.4.2 真空蒸发沉积 | 第21页 |
1.4.3 脉冲激光沉积 | 第21页 |
1.4.4 离子束辅助沉积 | 第21页 |
1.4.5 溶胶-凝胶 | 第21-22页 |
1.4.6 化学气相沉积 | 第22页 |
1.5 透明导电薄膜的应用 | 第22-23页 |
1.5.1 平板显示器 | 第22页 |
1.5.2 太阳能电池 | 第22页 |
1.5.3 透明视窗 | 第22-23页 |
1.6 透明导电薄膜的热处理 | 第23-24页 |
1.7 课题研究的目的及主要研究内容 | 第24-25页 |
2 技术路线与实验方法 | 第25-33页 |
2.1 主要实验原材料及用途 | 第25页 |
2.2 薄膜电极的制备方法及设备 | 第25-27页 |
2.2.1 薄膜电极的制备方法 | 第25-26页 |
2.2.2 磁控溅射设备 | 第26-27页 |
2.3 薄膜电极的测试方法及设备 | 第27-31页 |
2.3.1 薄膜电极的测试方法 | 第27页 |
2.3.2 薄膜电极的测试设备 | 第27-31页 |
2.4 技术路线图 | 第31-33页 |
3 磁控溅射ITO/LaB_6/ITO薄膜电极组织结构研究 | 第33-61页 |
3.1 薄膜热处理前后的组织形貌研究 | 第33-48页 |
3.1.1 ITO薄膜热处理前后的组织形貌研究 | 第33-36页 |
3.1.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的组织形貌研究 | 第36-42页 |
3.1.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的组织形貌研究 | 第42-48页 |
3.2 薄膜热处理前后的XRD研究 | 第48-52页 |
3.2.1 ITO薄膜热处理前后的XRD研究 | 第48-49页 |
3.2.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的XRD研究 | 第49-50页 |
3.2.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的XRD研究 | 第50-52页 |
3.3 薄膜热处理前后的粗糙度研究 | 第52-59页 |
3.3.1 ITO薄膜热处理前后的粗糙度研究 | 第52-53页 |
3.3.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的粗糙度研究 | 第53-56页 |
3.3.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的粗糙度研究 | 第56-59页 |
3.4 本章小结 | 第59-61页 |
4 磁控溅射ITO/LaB_6/ITO薄膜电极光电性能研究 | 第61-71页 |
4.1 ITO薄膜热处理前后的的光学电学性能研究 | 第61-62页 |
4.1.1 ITO薄膜热处理前后的光学性能研究 | 第61-62页 |
4.1.2 ITO薄膜热处理前后的电学性能研究 | 第62页 |
4.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的光学电学性能研究 | 第62-64页 |
4.2.1 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的光学性能研究 | 第62-64页 |
4.2.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的电学性能研究 | 第64页 |
4.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学电学性能研究 | 第64-68页 |
4.3.1 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学性能研究 | 第64-66页 |
4.3.2 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的电学性能研究 | 第66-68页 |
4.4 薄膜热处理前后的光电性能分析 | 第68-70页 |
4.4.1 ITO薄膜热处理前后的光电性能分析 | 第68-69页 |
4.4.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的光电性能分析 | 第69页 |
4.4.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光电性能分析 | 第69-70页 |
4.5 本章小结 | 第70-71页 |
5 总结 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
作者简介 | 第80页 |