摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
1.1 课题研究的目的和意义 | 第8页 |
1.2 红外技术的发展 | 第8-10页 |
1.3 红外加热干燥的优点 | 第10页 |
1.4 国内外研究现状 | 第10-12页 |
1.4.1 国外研究现状 | 第11页 |
1.4.2 国内研究现状 | 第11-12页 |
1.5 主要研究内容 | 第12-14页 |
第二章 红外烤漆理论基础 | 第14-27页 |
2.1 红外 | 第14-21页 |
2.1.1 红外辐射的理论 | 第14-16页 |
2.1.2 红外线的特性 | 第16-19页 |
2.1.3 物质的红外光谱及其产生机理 | 第19-21页 |
2.2 涂膜 | 第21-22页 |
2.2.1 涂膜组成和分类 | 第21-22页 |
2.2.2 涂料的干燥过程 | 第22页 |
2.3 两表面之间的辐射换热 | 第22-26页 |
2.3.1 两黑体之间的辐射换热 | 第23-24页 |
2.3.2 灰体的辐射换热 | 第24-26页 |
本章小结 | 第26-27页 |
第三章 漆膜干燥机理及干燥模型建立 | 第27-34页 |
3.1 红外干燥涂层的机理 | 第27-29页 |
3.1.1 红外线通过漆层的光路 | 第27页 |
3.1.2 红外干燥过程 | 第27-28页 |
3.1.3 红外辐射干燥的本质—匹配吸收 | 第28-29页 |
3.2 漆膜干燥特性的影响因素分析 | 第29-30页 |
3.3 干燥模型的建立 | 第30-32页 |
3.4 模型的计算方法 | 第32-33页 |
本章小结 | 第33-34页 |
第四章 烤灯总体方案设计 | 第34-40页 |
4.1 烤灯的框架设计 | 第34-37页 |
4.1.1 Spectratek系列烤灯 | 第34-35页 |
4.1.2 总体结构 | 第35-37页 |
4.2 卤素灯 | 第37-39页 |
4.2.1 工作原理 | 第37-38页 |
4.2.2 卤素灯的设计 | 第38-39页 |
本章小结 | 第39-40页 |
第五章 烤灯控制系统的研究 | 第40-51页 |
5.1 烤灯控制系统总体设计 | 第40-41页 |
5.2 温度控制系统 | 第41-44页 |
5.3 距离控制系统 | 第44-48页 |
5.4 时间控制系统 | 第48-50页 |
本章小结 | 第50-51页 |
总结 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53页 |