摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 透明导电氧化薄膜的研究和发展概述 | 第10-20页 |
1.1.1 透明导电氧化物薄膜的研究进展 | 第10-11页 |
1.1.2 ITO晶体结构及能带理论 | 第11-12页 |
1.1.3 ITO的电学性质 | 第12-14页 |
1.1.4 ITO的光学性质 | 第14-15页 |
1.1.5 ITO的气敏性质 | 第15页 |
1.1.6 ITO薄膜的应用 | 第15-16页 |
1.1.7 ITO薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
1.2 课题研究的意义与内容 | 第20-24页 |
第二章 无机物前驱体法 | 第24-60页 |
2.1 ITO前驱物浆料的制备 | 第24-29页 |
2.1.1 实验原料和设备 | 第24-25页 |
2.1.2 ITO前驱物浆料的制备原理和流程 | 第25-29页 |
2.1.3 小结 | 第29页 |
2.2 ITO前驱物浆料的性能研究 | 第29-43页 |
2.2.1 分散剂对ITO前驱物浆料的影响 | 第29-40页 |
2.2.2 陈化时间对前驱物浆料的影响 | 第40-42页 |
2.2.3 小结 | 第42-43页 |
2.3 ITO薄膜的涂敷工艺 | 第43-49页 |
2.3.1 ITO薄膜的涂敷工艺简介 | 第43页 |
2.3.2 实验原料与设备 | 第43-44页 |
2.3.3 实验过程 | 第44-46页 |
2.3.4 涂敷工艺对ITO薄膜光电性能的影响 | 第46-49页 |
2.3.5 小结 | 第49页 |
2.4 热处理工艺对ITO薄膜的影响 | 第49-52页 |
2.5 锡掺杂对ITO薄膜的影响 | 第52-60页 |
2.5.1 锡掺杂量对ITO薄膜电性能的影响 | 第52-55页 |
2.5.2 锡掺杂量对ITO薄膜光学性能的影响 | 第55-58页 |
2.5.3 小结 | 第58-60页 |
第三章 有机物前躯体法 | 第60-80页 |
3.1 ITO前驱物浆料的制备 | 第60-63页 |
3.1.1 实验原料和设备 | 第60-61页 |
3.1.2 ITO前驱物浆料的制备原理和流程 | 第61-62页 |
3.1.3 小结 | 第62-63页 |
3.2 ITO薄膜的涂敷工艺 | 第63页 |
3.3 ITO前躯体浆料对薄膜性能的影响 | 第63-69页 |
3.3.1 ITO前躯体浆料浓度对薄膜性能的影响 | 第63-66页 |
3.3.2 ITO前驱物浆料溶剂组成对薄膜性能的影响 | 第66-68页 |
3.3.3 小结 | 第68-69页 |
3.4 不同分散剂对ITO薄膜光电性能的影响 | 第69-76页 |
3.4.1 分散剂对ITO薄膜结构的影响 | 第69-72页 |
3.4.2 分散剂对ITO薄膜光电性能的影响 | 第72-75页 |
3.4.3 小结 | 第75-76页 |
3.5 热处理工艺对ITO薄膜电学性能的影响 | 第76-80页 |
3.5.1 在不同温度下涂敷层数与薄膜方电阻的关系 | 第76-78页 |
3.5.2 不同添加剂情况下薄膜方电阻与温度的关系 | 第78-79页 |
3.5.3 小结 | 第79-80页 |
第四章 结论 | 第80-82页 |
4.1 无机前躯体法 | 第80页 |
4.2 有机前驱体法 | 第80-82页 |
参考文献 | 第82-88页 |
致谢 | 第88-89页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第89-90页 |
作者简介 | 第90-91页 |
北京化工大学 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第91-92页 |