基于IMD技术的印刷质量控制研究--基于IMD技术的薄膜印刷适性研究

近些年来,模内装饰镶嵌注塑技术(IMD)从双层胶片层间黏结结构,发展到注塑成型多元结构的三维成型技术,其中的油墨易与片材分离是关键的工艺问题。PC与PET是应用最广泛的IMD薄膜,但两者表面张力较低,对油墨的亲和性较小,粘结性及可印性都比较差。国内目前在印刷行业内普遍应用的薄膜表面改性技术是电晕处理法,但该方法有较大的局限性。所以,使用一种更有效的方法来改善IMD薄膜的印刷适性以及应用一种精度更高的测量方式来评价该改性方法对薄膜印刷适性的改善程度显得非常重要。本论文将低温等离子体技术应用到IMD技术中,尝试使用氧等离子体来提高PC与PET薄膜的表面能,增加表面粗糙度,从而达到改善薄膜印刷适性的目的;同时将纳米划痕技术引用到油墨与薄膜界面的附着力计算中,从而定量的评价低温等离子体技术对薄膜表面改性的程度。首先从接触角、表面张力与粗糙度等因素对附着强度的影响进行了薄膜的印刷适性理论分析;其次分别对PC、PET薄膜进行了低温氧等离子体改性实验;等离子体处理后,通过原子力显微镜(AFM)观测了处理前后薄膜样品的表面粗糙度变化,然后使用了液滴形态分析仪来测量水与乙二醇在改性前后薄膜表面的接触角,并将接触角的测量值代入几何平均方程计算了薄膜改性前后的表面张力;最后,为了检测薄膜印刷适性的改变以及对比不同结构的PC与PET薄膜的印刷适性,使用纳米压痕仪(Nano—Indenter)估算了油墨在改性前后薄膜的附着力,同时定量分析出低温等离子体处理对IMD薄膜印刷适性的改善程度。