氧化钼的合成、表征及二氧化钼的高压同步辐射研究
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本文利用氧化法成功制备了MoO3纳米片及MoO2微米菱形片状结构,并对MoO2菱形片进行了高压物性分析。利用传统管式炉,通过简单的氧化-蒸发-沉积的过程在常压氩气环境下成功合成了MoO3纳米片。In2O3与活性碳在高温环境下反应生成氧气,再与钼片反应生成了MoO3纳米片,并利用XRD、SEM、TEM、HRTEM等方法对生成的纳米片进行了结构和形貌分析。表明MoO3纳米片属正交相,并具有大的表面积。此外还对样品进行了光致发光(PL)及拉曼(Raman)光谱测试。对纳米片的生长机制进行了讨论。同样通过氧化-蒸发-沉积过程,通过改变实验温度,合成了MoO2菱形微米片状结构,并对其进行了XRD和SEM测试和表征,表明生成的MoO2菱形微米片属单斜晶系,具有微米尺寸。Raman光谱研究表明MoO2菱形微米片具有良好的Raman振动特性。讨论了MoO2菱形微米片的生长机制,给出了生长过程模型。利用DAC装置对MoO2微米菱形片进行了高压同步辐射研究,给出了高压下MoO2的X-ray衍射数据,在0.63~39.32GPa压力范围内MoO2有两次相变发生。该数据目前尚未见相关报导。?
| 提要 | 第4-7页 |
| 第一章 纳米材料与纳米技术 | 第7-20页 |
| 1.1 纳米材料简介 | 第7-11页 |
| 1.1.1 纳米材料定义 | 第7-8页 |
| 1.1.2 纳米材料的性质 | 第8-11页 |
| 1.2 纳米材料的制备及表征 | 第11-13页 |
| 1.2.1 纳米材料的制备方法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 纳米材料的分析表征方法 | 第12-13页 |
| 1.3 氧化钼简介 | 第13-19页 |
| 1.3.1 MoO_2、MoO_3 的结构和物理化学性质 | 第13-15页 |
| 1.3.2 MoO_2、MoO_3 的应用前景和研究现状 | 第15-19页 |
| 1.4 选题的目的和意义 | 第19-20页 |
| 第二章 高压实验技术和实验方法 | 第20-24页 |
| 2.1 超高压实验技术和 DAC(金刚石对顶砧) | 第20-21页 |
| 2.2 压力标定和传压介质 | 第21-22页 |
| 2.3 同步辐射实验技术 | 第22-24页 |
| 第三章 三氧化钼(MoO_3)六角形纳米片的合成与表征 | 第24-34页 |
| 3.1 MoO_3 六角形纳米片的制备方法 | 第24页 |
| 3.2 MoO_3 六角形纳米片的测试结果分析 | 第24-32页 |
| 3.2.1 样品的 XRD 及 EDX 结构成份分析 | 第25-26页 |
| 3.2.2 样品的 SEM 及 TEM 形貌分析 | 第26-29页 |
| 3.2.3 样品的常压微区 Raman 研究 | 第29-31页 |
| 3.2.4 样品的常压光致发光(PL)研究 | 第31-32页 |
| 3.3 MoO_3 六角形纳米片的生长机制讨论 | 第32-33页 |
| 3.4 小结 | 第33-34页 |
| 第四章 二氧化钼(MoO_2)菱形微米片的合成和表征 | 第34-39页 |
| 4.1 MoO_2 菱形微米片的制备 | 第34页 |
| 4.2 MoO_2 菱形微米片实验结果分析 | 第34-37页 |
| 4.2.1 样品的 XRD 结构分析 | 第34-35页 |
| 4.2.2 样品的 SEM 形貌分析 | 第35-36页 |
| 4.2.3 样品的常压微区 Raman 光谱研究 | 第36-37页 |
| 4.3 MoO_2 菱形微米片形成机制探索 | 第37-38页 |
| 4.4 小结 | 第38-39页 |
| 第五章 MoO_2 高压同步辐射 X 射线衍射光谱研究 | 第39-44页 |
| 5.1 MoO_2 菱形微米片的高压 X 射线研究 | 第39-40页 |
| 5.2 实验结果分析 | 第40-43页 |
| 5.3 小结 | 第43-44页 |
| 第六章 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-53页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及取得的科研成果 | 第53页 |
| 发表的学术论文 | 第53-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 中文摘要 | 第57-59页 |
| Abstract | 第59-60页 |
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