碳和掺杂碳纳米管的制备和性能研究
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本论文首先采用催化热解的方法制备出碳纳米管、碳氮纳米管、硼碳氮纳米管、镓掺杂碳纳米管和硼掺杂碳纳米管,并通过SEM、TEM、拉曼光谱仪对各种纳米管进行研究。镍/二茂铁催化作用下生成的多壁碳纳米管直径分布主要集中在50nm左右。在980℃下制备的碳氮纳米管的直径在15~60nm之间,呈现“竹节”状结构管体,存在大量弯曲分子面。BCN纳米管中“竹节”状较为明显,每一节的间距基本相等,直径约50nm,壁厚约7nm。结晶程度较高,在外管壁上没有发现大量的无定形碳。镓掺杂碳纳米管为常规中空管,弯曲较少,直径在30-70nm范围内。对其进行能谱分析,测得管中镓的含量小于1%。硼掺杂碳纳米管长度在20μm左右,直径30~100nm之间,类竹节结构。 利用丝网印刷方法制得各种纳米管薄膜。在高真空系统(5.0×10-5Pa)下对各种纳米管薄膜的场发射性能进行研究。实验中测得碳纳米管的开启电场为2.22V/μm,当电场增加到5.7V/μm时,电流密度达到1400μA/cm2。碳氮纳米管的开启电场为1.1V/μm,当电场增加到5.7V/μm时,电流密度达到3000μA/cm2,硼碳氮纳米管的开启电场为4.4V/μm,然而硼碳氮纳米管的发射电流非常微弱,当电场升至5.7V/μm时,电流密度仍在50μA/cm2以下,镓掺杂碳纳米管的开启电场为1.0V/μm,当电场增加到2.6V/μm时,电流密度达到5000μA/cm2,硼掺杂纳米管开启电压为2.1V/μm,当电场增加到3.5V/μm时,电流密度达到2000μA/cm2,结果发现镓掺杂碳纳米管场发射性能要远优越于其他四种纳米管薄膜。
第一章 绪论 | 第7-16页 |
1.1 碳纳米管的结构及形貌 | 第7-8页 |
1.2 碳纳米管独特的性质 | 第8-9页 |
1.3 碳纳米管的应用前景 | 第9-12页 |
1.4 碳纳米管的合成方法简介 | 第12-14页 |
1.5 本论文研究的目的 | 第14-16页 |
第二章 碳纳米管的制备和研究 | 第16-25页 |
2.1 碳纳米管的研究现状综述 | 第16-18页 |
2.2 碳纳米管的制备、纯化 | 第18-21页 |
2.2.1 碳纳米管的制备装置及实验步骤 | 第18-19页 |
2.2.2 碳纳米管的纯化 | 第19-20页 |
2.2.3 实验结果 | 第20-21页 |
2.3 碳纳米管的拉曼光谱表征 | 第21-25页 |
2.3.1 拉曼光谱简介 | 第21页 |
2.3.2 多壁碳纳米管的拉曼光谱研究进展 | 第21-22页 |
2.3.3 多壁碳纳米管拉曼光谱的实验研究 | 第22-25页 |
第三章 掺杂碳纳米管的制备与研究 | 第25-38页 |
3.1 引言 | 第25-26页 |
3.2 掺杂碳纳米管的研究综述 | 第26-27页 |
3.3 掺杂碳纳米管的制备、TEM、SEM分析 | 第27-35页 |
3.3.1 碳氮纳米管的制备 | 第27-28页 |
3.3.2 硼碳氮纳米管的制备 | 第28-29页 |
3.3.3 镓掺杂碳纳米管的制备 | 第29-32页 |
3.3.4 硼掺杂碳纳米管的制备 | 第32-35页 |
3.4 碳及掺杂碳纳米管的拉曼光谱表征 | 第35-37页 |
3.5 小结 | 第37-38页 |
第四章 碳及掺杂碳纳米管场发射性能的研究 | 第38-58页 |
4.1 引言 | 第38页 |
4.2 电子场致发射的基本概念 | 第38-41页 |
4.3 影响碳纳米管薄膜场致发射的主要因素 | 第41-42页 |
4.4 碳纳米管薄膜在场致发射方面的研究进展 | 第42-44页 |
4.5 掺杂纳米管薄膜场致发射研究进展 | 第44页 |
4.6 纳米管薄膜的制备 | 第44-46页 |
4.7 场致电子发射测试仪的原理与结构 | 第46-47页 |
4.8 碳及掺杂碳纳米管薄膜场发射性能测试 | 第47-56页 |
4.8.1 碳纳米管薄膜场发射性能测试 | 第47-49页 |
4.8.2 碳氮纳米管薄膜场发射性能测试 | 第49-51页 |
4.8.3 硼碳氮纳米管薄膜场发射性能的测试 | 第51-52页 |
4.8.4 镓掺杂碳纳米管薄膜场发射性能的测试 | 第52-55页 |
4.8.5 硼掺杂碳纳米管薄膜场发射性能的测试 | 第55-56页 |
4.9 碳及掺杂碳纳米管场发射性能的分析 | 第56页 |
4.10 小结 | 第56-58页 |
全文总结 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-70页 |
攻读硕士学位期间发表论文与研究成果 | 第70-71页 |
致谢 | 第71页 |
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