铝基复合材料增强体预处理与半固态浆料电磁搅拌制备工艺研究
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提高增强颗粒与金属熔体间的浸润性,使增强颗粒均匀分布在浆料之中是制备金属基复合材料的关键。为此,本文从颗粒的预处理和电磁搅拌半固态复合工艺方面进行了试验研究。颗粒高温氧化处理试验研究表明:SiC颗粒表面的杂质主要是纳米级的SiC粉体和SiO2氧化膜。氧化时,颗粒表面的纳米粉体和颗粒尖角处首先发生氧化。氧化膜会吞陷表层SiC粉体,起到净化颗粒表面,提高浸润性的作用。氧化层的厚度增加速度随着时间的增加而降低,6h以后趋于平稳。化学镀铜试验研究表明:SiC的化学稳定性,化学镀覆的粗化工艺并不能使其表面粗糙化。传统化学镀铜的载量在20dm2/l左右时能获得均匀且致密的镀层。为了提高化学镀铜的效率,降低镀铜成本,提出了一种不用敏化、活化的颗粒镀铜新工艺。在该工艺下,镀铜的加载量能达到200dm2/l,虽然镀层致密性下降,但仍能作为SiC颗粒的预处理工艺来改善颗粒与熔体间浸润性。研究了增强颗粒预处理工艺及其加入方式、金属熔体流动状态以及电磁搅拌频率等工艺参数对半固态复合浆料制备的影响。结果表明,当电磁搅拌频率为6Hz,采取从中部加入的方式加入表面镀铜处理的颗粒,并在坩埚内设置引流叶片提高熔体流动的紊乱度的情况下,可以改善颗粒与熔体间的浸润性,并使颗粒在搅拌坩埚内均匀分布。
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 半固态金属成形技术 | 第11-13页 |
1.1.1 半固态金属成形技术的概念及特点 | 第11-12页 |
1.1.2 半固态金属成形技术的分类 | 第12-13页 |
1.1.3 半固态金属浆料的制备方法 | 第13页 |
1.2 电磁搅拌技术 | 第13-16页 |
1.2.1 电磁搅拌的原理和特点 | 第13-14页 |
1.2.2 电磁搅拌技术的国内外发展现状 | 第14-16页 |
1.3 碳化硅颗粒增强铝基复合材料 | 第16-21页 |
1.3.1 颗粒增强铝基复合材料应用 | 第16-18页 |
1.3.2 SiC 颗粒增强铝基复合材料的研究现状 | 第18-21页 |
1.3.3 尚待解决的问题 | 第21页 |
1.4 本论文研究的意义及主要内容 | 第21-23页 |
第2章 试验的原理与方法 | 第23-36页 |
2.1 试验工艺流程 | 第23页 |
2.2 实验设备 | 第23-26页 |
2.2.1 搅拌炉的设计 | 第23-24页 |
2.2.2 复合浆料制备用到的其它设备 | 第24-26页 |
2.2.3 试验的分析和测量仪器 | 第26页 |
2.3 设备的调试和取样方案 | 第26-30页 |
2.3.1 等温区的确定 | 第26-27页 |
2.3.2 等磁区的确定 | 第27-28页 |
2.3.3 热电偶的抗干扰问题 | 第28-29页 |
2.3.4 石墨坩埚抗氧化问题 | 第29-30页 |
2.4 基体合金的熔炼 | 第30-32页 |
2.4.1 基体合金的选择 | 第30-31页 |
2.4.2 铝合金的熔炼工艺 | 第31页 |
2.4.3 合金两相区的确定 | 第31-32页 |
2.5 颗粒表面的预处理 | 第32-36页 |
2.5.1 颗粒预处理的必要性 | 第32页 |
2.5.2 颗粒表面氧化 | 第32-33页 |
2.5.3 颗粒表面镀铜 | 第33-36页 |
第3章 SiC 颗粒预处理 | 第36-54页 |
3.1 颗粒表征 | 第36-39页 |
3.1.1 颗粒粒度分布 | 第36-38页 |
3.1.2 颗粒形貌 | 第38-39页 |
3.1.3 表面状态 | 第39页 |
3.2 颗粒氧化 | 第39-46页 |
3.2.1 氧化后颗粒表面氧化层观察 | 第39-41页 |
3.2.2 氧化层厚度计算 | 第41-43页 |
3.2.3 影响氧化层厚度的因素 | 第43-46页 |
3.3 颗粒表面镀铜 | 第46-54页 |
3.3.1 粗化 | 第46-47页 |
3.3.2 敏化 | 第47-48页 |
3.3.3 活化 | 第48页 |
3.3.4 镀铜 | 第48-52页 |
3.3.5 颗粒镀铜新工艺 | 第52-54页 |
第4章 电磁搅拌制备半固态复合浆料 | 第54-69页 |
4.1 试验影响因素 | 第54-58页 |
4.1.1 颗粒预处理方式 | 第56页 |
4.1.2 颗粒加入方式 | 第56-57页 |
4.1.3 提高熔体紊乱度 | 第57页 |
4.1.4 搅拌频率 | 第57-58页 |
4.2 各影响因素的典型试验现象 | 第58页 |
4.3 正交试验方案的制定 | 第58-60页 |
4.4 电磁搅拌复合工艺对颗粒浸润性的影响 | 第60-63页 |
4.4.1 试验数据与处理 | 第60-62页 |
4.4.2 实验结果与分析 | 第62-63页 |
4.5 电磁搅拌复合工艺对颗粒宏观均匀性的影响 | 第63-67页 |
4.5.1 试验数据与处理 | 第63-64页 |
4.5.2 试验结果与分析 | 第64-67页 |
4.6 最佳工艺参数确定 | 第67-69页 |
结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-77页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
附录 | 第79-81页 |
详细摘要 | 第81-88页 |
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